自由基的作用主要表现在化学响应过程中能量转移的“激活”作用，氧化膜附着力的影响处于激发状态的自由基具有较高的能量，因此，当它容易与物体外部的分子结合时，就会形成新的自由基，新形成的自由基也处于不稳定的高能状态，很可能会出现分化反响，反应过程可能会持续，最终分裂成水、二氧化碳等简单分子。在其他情况下，自由基与物体表面的分子结合，释放出大量的结合能，进而触发新的分子回击的驱动力，进而使物体表面的物质发生化学回击而被去除。
一、等离子清洗装置的特点——清洗表面清洁，氧化膜附着力的影响顾名思义，主要是去除产品表面的污染物，主要是清洗普通水基清洁设备无法彻底清洁的污染物。仅表面。产品表面侵蚀、弱键、典型的基于 CH 的氧化物和污染物去除。为下一步做好准备。
等离子清洗的机理主要是与材料表面发生反应。该反应可分为两种：粒子的化学作用，氧化膜附着力的影响主要是自由基活性粒子，和粒子的物理作用，主要是阳离子。和电子的。气体放电产生的等离子体包括电子、阳离子、亚稳态分子、原子等。当在洗手间浸入等离子体时，等离子体中的化学活性粒子会与材料表面的污染物发生化学反应。它是氢离子，反应是还原反应；如果是氧离子，就会发生氧化反应。
中小型多功能等离子清洗机受电场效果，氧化膜附着力的影响它们发生磕碰而构成等离子体，这些离子的活性很高，其能量足以损坏几乎所有的化学键，在任何暴露的外表引起化学反应，不同气体的等离子体具有不同的化学功能，如氧气的等离子体具有很高的氧化性，能氧化光刻胶反应生成气体，从而到达清洗的效果；腐蚀性气体的等离子体具有很好的各向异性，这样就能满意刻蚀的需要。。
氧化膜附着力的影响
氩和氦性质稳定，放电电压低(氩原子电离能E为15.57eV)，容易形成亚稳态原子。等离子清洗机一方面利用其高能粒子的物理作用清洗容易氧化或还原的物体，Ar+轰击污垢形成挥发性污垢，用真空泵抽走，避免了表面物质的反应；另一方面，亚稳原子容易利用氩形成，然后与氧和氢分子碰撞时发生电荷转换和结合，形成氧氢活性原子作用于物体表面。
它也是一种容易氧化和还原的材料。等离子表面处理机的材料也可用于反转氧气和氢气氩气的清洗顺序，进行彻底清洗。氩气：物理冲击是氩气净化的机制。由于其原子尺寸大，氩气是一种有效的物理等离子清洗气体。样品表面会受到很大的冲击。正氩离子被吸引到负极板。冲击力足以去除表面的污垢。这些气态污染物由真空泵排出。氧气：在化学过程中，等离子体与样品表面的化合物发生反应。
三、降低死层影响低温等离子体的处理可以使得表面磷原子分布更加均匀，促进磷原子落位正确，降低了电池片面的死层影响。
在未来工艺节点减少的情况下，单片晶圆清洗设备是目前可预测技术下清洗设备的主流。等离子体清洗设备是贯穿半导体产业链的重要环节，用于清洗每一步原材料和半成品上可能存在的杂质，避免杂质影响成品质量和下游产品性能，是单晶硅片制造、光刻、刻蚀、沉积、封装工艺等关键工序的必要环节。。
氧化膜附着力的影响
等离子清洗机不放电或放电不稳定，氧化膜附着力差怎么处理往往是等离子发生器阻抗匹配出的情况。当等离子体发生器发射能量,如果反应腔和电极的阻抗(以下简称负载)不等于传输线的特性阻抗,它将反映在传输过程中,通过加热和部分能量散失和其他方面,而不是所有的能量都被负载的等离子体吸收的等离子清洗机。这将直接影响等离子体表面处理的效果。
等离子体表面处理由于低温等离子体的强度小于高温等离子体，氧化膜附着力的影响它可以保护被处理物体的表面，所以我们在应用中使用低温等离子体。而各种颗粒在处理物体的过程中所显示的作用是不一样的，自由基(自由基)主要是实现表面化学反应过程中的能量转移。激活和整个;作用;表面电子的影响对象主要包括两个方面:一方面,对物体表面的影响,另一方面,化学反应引起的大量电子的影响;离子可以通过溅射过程对象的表面。
