通常认为甲烷在等离子体条件下通过两种途径产生乙炔: 1. CH自由基偶联反应; 2. C2H6和C2H4的脱氢反应。系统中CO2浓度的不断增加会消耗大量高能电子、C2H6、C2H4和高能电子。电子碰撞的可能性不断降低,偶联剂附着力进一步的脱氢反应受到阻碍,C2H4的产生量进一步减少。因此,随着体系中CO2浓度的增加,C2H6和C2H4的摩尔分数趋于增加,C2H2的摩尔分数减小。。
一般而言,偶联剂附着力CEO2 / Y-AL203 是一种出色的催化剂,可将 CH4 完全氧化生成 CO,并且不会导致生成 C2 碳氢化合物。同样,SM2O3 / Y-AL2O3 是等离子体中 CH4 氧化偶联反应的优良催化剂。其在等离子体气氛中的催化活性尚不清楚。这表明等离子体-催化相互作用的机理不同于纯催化。因此,有必要进一步研究等离子体表面处理装置与催化剂的相互作用机理。
等离子体设备作用下二氧化碳加入对CH4转化反应的影响;在氧等离子体氧化偶联甲烷反应中,哪些硅烷偶联剂附着力氧气的用量将直接影响CH4的转化率和C2烃的选择性。较低的氧量会导致CH4转化率较低,而较高的氧量会导致CH4氧化为COx(x=1,2)。对于等离子体设备作用下的CO2氧化CH转化反应,也有适宜的CO2添加量。
具体分类如下:分类高温等离子体低温等离子体热等离子体冷等离子体温度范围10^6~10^8K10^3~10^5K10^2~10^5K热力学性质热力学平衡局部热力学平衡非热力学平衡应用范围太阳上等离子体电弧等离子体辉光放电受控热核聚变高频等离子体电晕放电。plasma等离子发生器广泛应用于刻蚀、脱胶、涂层、灰度、等离子外表处理。
等离子体表面处理通常是一种等离子体反应过程,硅烷偶联剂 附着力它改变表面的分子结构或替换表面上的原子。即使在氧气或氮气等惰性气氛中,等离子体处理也可以在低温下产生高反应性基团。在这个过程中,等离子体也会产生高能紫外线。连同产生的快离子和电子一起,它提供了破坏聚合物键和产生表面化学反应所需的能量。这种...
在真空室中,沈阳高附着力树脂报价图片射频电源在一定压力下产生高能无序等离子体,通过等离子轰击清洗产品表面。达到清洗的目的。等离子体处理可纳入导电,半导电和非导电应用。等离子体清洗表面的有效方法是去除杂质、污染物、残留物和有机(机械)化合物。这个过程被称为微清洗或蚀刻,提供了提高附着力的另一个重要方面...
由于在实验条件下没有获得 CO2 转化为 C2 烃的直接证据,偶联剂附着力促进剂因此认为 C2 烃来源于甲烷偶联反应。C2H6是甲烷脱氢偶联反应的初级产物,硅烷偶联剂附着力促进剂C2H4和C2H2分别是C2H6和C2H4进一步脱氢的次级产物,因此存在下列反应途径:CH4→C2H6&rarr...
可采用40kHz、13.56MHz、2.45GHz射频发生器,硅烷偶联剂与塑料附着力满足不同清洗效率和清洗效果的需要。通过等离子清洗机在这些行业的应用,可以发现其具有以下特点:1.操作灵活,可简单改变处理气体种类和处理程序;2.使用过程中不会对操作者身体造成任何伤害;3.对于等离子体处理,等离子体清...
1.适应范围广,表面有机改性纳米氧化铁等离子表面处理技术能够实现对大多数固态物质的处理,因此应用的领域非常广泛,且成本低于传统净化设备2. 均匀度高。大气等离子是辉光式的等离子幕,直接作用于材料表面,实验证明,同一材料不同位置的处理均匀性很高,这一特性对于工业领域进行下一环节的贴合、邦定、涂布、印刷...
以上主要是部分半自动和在线自动等离子表面处理设备介绍及两种操作模式的特点如果您对产品详情或使用方法有任何疑问,喷塑附着力不行的原因请点击在线客服等待您的来电。。等离子表面处理设备金属表面的脱脂清洗等离子表面处理设备最早出现在德国,是世界上最早的研发和实践基地。最初只有常温等离子设备,但随着科技的发展...
5、由于只消耗空气和电力,油漆附着力实验报告运行成本低,运行安全。环保要求。它取代了传统的油漆磨边机。消除纸屑和羊毛对环境和设备的影响。 7.等离子表面处理后,使用普通胶水将盒子固定,以降低制造成本。 8.针对不同的产品和加工环境,可以选择不同类型的等离子喷枪和喷嘴在不同情况下使用。 9.可在线...