等离子去胶机，也称为等离子清洗机，是一种高科技的清洗设备，它通过利用高频电场和化学反应的双重作用，将表面被去除杂质物的物体放置于等离子体区域内，产生大量离子流和电子流，经过碰撞反应使表面上杂质物质大量裂解氧化，达到除去杂质物的作用。这种设备能够去除多种类型的胶，包括但不限于以下几种：

  1. 光刻胶：微波等离子清洗相比其他技术形式的等离子清洗方式，具有一致性高、对产品无害、清洗彻底的优点。
  2. SU-8光刻胶：特定的微波等离子清洗设备可以安全地清除SU-8光刻胶。
  3. 高分子聚合物：通过微波产生的自由基，等离子去胶机能够完全清除高分子聚合物，包括在很深且狭窄尖锐的沟槽里的聚合物。
  4. 胶体颗粒：等离子除胶技术利用等离子体的高能量和活性，迅速破坏胶体颗粒的结构，使其失去粘附性，实现胶体的除胶效果。这包括胶水、乳胶等常见胶体，以及胶印、油墨、橡胶等不同类型的胶体。

此外，等离子清洗机还可以去除部分环氧树脂胶，但不能做到彻底的清洁，需要借助其他酸碱性药水来进行彻底清除。

总之，等离子去胶机是一种功能强大的设备，可以去除多种类型的胶，广泛应用于LED封装、半导体、PCB板、磁记录头、手机LCD、智能手机玻璃盖板、触控屏、精密机械、光学仪器、航空航天等领域。