主要流程如下：首先将清洗好的工件送入真空室进行固定，田宫跳跃者喷漆附着力差真空泵等设备开始抽真空，抽真空至10Pa左右。气体也不同，如O2、H2、Ar。 、N2等），压力始终保持在100Pa左右，在真空中的电极片与保护地之间施加高频电压，分解混合气体。辉光放电它通过辉光放电进行电离和电离以执行等离子体。真空窒息等离子覆盖清洗后的工件后，开始清洗操作，清洗过程持续几十秒到几分钟。。
等离子清洗/刻蚀机产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电场，喷漆附着力怎么样好的用真空泵实现一定的真空度，随着气体愈来愈稀薄，分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长，受电场作用，它们发生碰撞而形成等离子体，这些离子的活性很高，其能量足以破坏几乎所有的化学键，在任何暴露的表面引起化学反应，不同气体的等离子体具有不同的化学性能，如氧气的等离子体具有很高的氧化性，能氧化光刻胶反应生成气体，从而达到清洗的效果;腐蚀性气体的等离子体具有很好的各向异性，这样就能满足刻蚀的需要。
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由上述过程可以看出，喷漆附着力怎么样好的电子从电场获取能量，而得到能量的分子或原子则被激发，并通过激发或电离将能量传递给分子或原子，同时有部分分子被电离，从而形成活性基；随后，这些活性基与分子或原子、活性基与活性基相互碰撞，产生稳定的产物和热。此外，卤素和氧的电子也可以亲和高能电子。。
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3.半导体封装的等离子体清洗按其反应类型可分为以下三种：A.物理反应清洗：Ar等惰性气体不易与其他物质发生反应，离子质量较重，物理轰击材料表面，去除污染物或打破聚合物的结合，形成微观结构粗糙的表面。
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真空等离子清洗机工作过程：真空等离子清洗机包括一个反应腔室、电源和真空泵组。样品放置反应腔室内，真空泵开始抽气至一定的真空度，电源启动便产生等离子体，然后气体通入到反应腔室，使腔室中的等离子体变成反应等离子体，这些等离子体与样品表面发生反应，生产可挥发的副产物，并由真空泵抽出。
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