等离子体中电子的温度可以达到几千K到几万K，电晕处理对膜料的影响而气体的温度很低，大约是室温到几百摄氏度，电子的能量大约是几伏到十伏。这个能量比高分子材料的成键能高出几到十电子伏特。-真空等离子体清洗机可以完全破坏有机大分子的化学键形成新的键；但它比高能射线低得多，而且只影响材料表面，因此不会影响其性质。
等离子体中粒子的能量一般在几到几十电子伏特左右，电晕处理的作用是什么大于高分子材料的成键键能，可以完全打破有机大分子的化学键，形成新的键；但远低于高能放射线，只涉及材料表面，不影响基体的性质。在非热力学平衡低温等离子体中，电子具有更高的能量，可以打破材料表面分子的化学键，提高粒子的化学反应活性（高于热等离子体），而中性粒子的温度接近室温。这些优点为热敏性聚合物的表面改性提供了适宜的条件。
等离子体中粒子的能量通常为几至几十电子伏特，电晕处理的作用是什么对有机高分子化合物的离子键破坏作用比对高分子材料的键合键破坏作用更好，从而形成新的键合；但远小于高能放射性辐射，仅涉及材料表层，不影响基体性能。在低温等离子体中，非热力学平衡态的电子能量较高，能破坏材料表面分子的离子键，增加粒子的化学反应活性（大于热低温等离子体），而中性粒子的温度接近室温，为热敏性聚合物的表面改性提供了适宜条件。
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等离子体是物质的一种状态，也叫物质的第四状态。施加足够的能量使气体电离，就变成了等离子体状态。等离子体的“活性”成分包括：离子、电子、活性基团、激发核素（亚稳态）、光子等。等离子体清洗机就是通过这些活性成分的特性对样品的表层进行加工，从而满足清洗的需要。等离子体和固体、液体或气体一样，是物质的一种状态，也叫物质的第四态。施加足够的能量使气体电离，就变成了等离子体状态。
1）氩气：物理轰击是氩气清洗的机理，氩气原子尺寸大，是最有效的物理等离子体清洗气体，可以用很大的力轰击样品表面，正氩离子会被吸引到负极板上，冲击力足以清除表面的任何污垢，然后通过真空泵将气态污垢排出。2）氧：等离子体与样品表面的化合物反应的化学过程，例如有机污染物可以用氧等离子体有效去除在那里氧等离子体与污染物反应生成二氧化碳、一氧化碳和水。一般来说，化学反应在去除有机污染物方面更好。
总的来说，虽然取得了很大进展，但速度似乎比一年前的预期要慢。业界已经发现了5G的一些局限性，并且已经有传言说6G将在十年后推出。扩展现实(XR)或各种扩展现实领域之一，如虚拟现实(VR)、增强现实(AR)、混合现实(MR)等，在过去几年以光速发展。它仍在开发中，但预计2020年面世的大部分硬件都被推迟了。
相反，它们会通过传递能量使高分子链中的化学键断裂，断裂的高分子链形成能与其活性部分重新结合的“悬浮键”，从而形成明显的分子复合和交联。聚合物表面形成的“悬吊键”容易发生接枝反应，已应用于生物医学技术。活化是等离子体化学基团取代表面聚合物基团的过程。等离子体打破聚合物中的弱键，代之以等离子体中高活性的羰基、羧基和羟基；此外，血浆也可被氨基或其他官能团激活。
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