碳化硅的加工方法有电化学腐蚀、机械加工、超声波加工、激光刻蚀、等离子刻蚀等。在等离子体发生器中，IC蚀刻有化学离子刻蚀(RIE)、电子器件回旋共振(ECR)和电感耦合等离子体(ICP)。ICP蚀刻器件具有选择性强、结构简单、操作方便、易于控制等优点，被广泛应用于SiC蚀刻领域。ICP蚀刻工艺主要用于加工制造SiC半导体器件和微机电系统(MEMS)器件，蚀刻表面质量，提高SiC微波功率器件的性能和质量。
通过等离子表面处理的优点，IC蚀刻机器可以提高表面润湿能力，使各种材料都能进行涂布、电镀等操作，增强粘接强度和结合力，同时去除油污或油脂、有机污染物，等离子清洗机既能处理物体，又能处理各种材料、金属、半导体氧化物,或高分子材料可用于处理等离子体的等离子体清洗machineApplication清洁IC封装业因)如果有污染物在工件分配和加载之前,工件上的银胶将形成一个圆形的球,这大大降低了债券的芯片。
等离子清洗机又称等离子蚀刻机、等离子打胶机、等离子活化剂、等离子清洗机、等离子表面处理机、等离子清洗系统等。等离子处理机广泛应用于等离子清洗、等离子蚀刻、icp、晶圆到橡胶涂层、icp、灰化活化和等离子表面处理等。通过等离子表面处理的优点，IC蚀刻可以提高表面润湿能力，使各种材料可以进行涂覆、电镀等操作，增强粘接强度和结合力，还可以去除有机污染物、油污或润滑脂。
反应性等离子体是指等离子体中的活性粒子能与耐火材料表面发生反应，IC蚀刻从而引...
