1、高附着力单体（提高附着力单体有哪些）高附着力单体mf135 为了在保证基片无损伤的同时达到佳清洗效果，提高附着力单体有哪些兆声能量密度必须保持略低于样片上任意位置损伤阈值。湿法刻蚀技术使基片表面声波能量均匀分布，提高了分布能量以支持理想清洗，并保证在样片损伤阈值范围内。该系统具有重复性高，均匀度好，Z级先进的兆声清洗功能，兆声辅助下的光刻胶剥离和湿法刻蚀功能...
