对等离子体进行未经化学处理的任何一种表面改性方法，如何提高镀膜产品的附着力称为干蚀。在等离子蚀刻过程中，所有等离子清洗的产品都是干腐蚀的。等离子体腐蚀类似于等离子体清洗。而等离子蚀刻则是用来去除已处理表面层杂质。2、将经plasma真空等离子清洗机的气体引入真空室，并保持内腔压力稳定。根据清洁材料的不同，可以分别使用氧气，氩气，氢气，氮气，四氟化碳等气体。氧-等离子体处理是目前常用的干法腐蚀方法之一。
而静电力引起的正负电荷的漂移相同，如何提高镀膜产品的附着力因而不形成电流。而非静电力引起的正负电荷的漂移是相反的，会形成电流。 当磁场随时间及空间变化十分缓慢时，可以把粒子运动看成是回旋运动和导向中心运动的叠加。为使问题简化起见，可以不考虑快速的回旋运动而只考虑导向中心的运动，这就是漂移近似。在粒子轨道理论中，主要就是采用漂移近似来研究粒子的运动。
等离子清洗设备和工艺以其在健康、环保、效益、安全等诸多方面的优势逐步取代湿法清洗工艺，如何提高漆膜附着力特别是在精密件清洗和新半导体材料研究和集成电路器件制造业中，干式等离子体清洗应用前景广阔。
在进行等离子体刻蚀时，如何提高漆膜附着力工作温度和压力也起着重要作用，工作温度和压力的微小变化会显著改变电子的碰撞频率。RIE(反应离子刻蚀)利用物理和化学机制实现单向的高水平表面刻蚀。因为RIE过程将物理和化学作用结合在一起，它比单独的等离子刻蚀更快。高能量的离子...
