一般情况下，氧等离子体rie泡沫、玻璃、塑料片和波纹材料润湿性较差，需进行等离子表面处理。等离子清洗原理：等离子清洗是依靠特定物质等离子体中的高能粒子流冲击需要清洁的物体表面，产生物理冲击（如氩等离子体）或化学反应（氧等离子体）来实现去除物体表面污渍的功能。目前，大多数等离子清洗系统通过降低反应仓的压力到 Pa一下，然后以一定的速度通入合适的气体并启动电源来获得等离子体。
在对液晶玻璃进行的等离子清洗中，用氧等离子打硅片为什么会增加吸附能力使用的活化气体是氧的等离子体，它能除去油性污垢和有机污染物粒子，因为氧等离子体可将有机物氧化并形成气体排出。它的唯壹问题是需要在去除粒子后加入一个除静电装置，其清洗工艺如下:吹气—氧等离子体―除静电 电子行业对高自动化程度的要求，需要采用高可靠性、高生产效率和处理效果的在线式表面处理工艺。
第三个反应方程式表明氧分子在高能激发态的自由电子的作用下转变为激发态。第四和第五个方程表明被激发的氧分子进一步转化。在第四个方程中，用氧等离子打硅片为什么会增加吸附能力缺氧食物和大脑发出光能（紫外线）并恢复正常。在第五个反应中，被激发的氧分子分解成两个氧自由基。第六个反应式表示氧分子在激发的自由电子的作用下分解成氧原子自由基和氧原子阳离子的过程。当这些反应连续发生时，会形成氧等离子体并形成其他气体的等离子体。
在这种情况下，用氧等离子打硅片为什么会增加吸附能力等离子处理会产生以下影响：有机层表面灰化化学轰击表面上真空和瞬时高温状态，部分蒸发污染物污染物粉碎高能离子的影响下和真空紫外线真空破坏污染物因为血浆治疗仅能穿透几纳米每秒的厚度，使污染层不能太厚。指纹也适用。 氧化去除金属氧化物反应后的气体这个过程使用氢气或氩气和氢...
