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电子的反应比离子快得多,路面附着力增高因为它们更轻。因此,放置在电子路径中的矩阵在等待阳离子到达时带负电。带负电荷的表面的静电吸引力加速了阳离子朝向表面。碰撞允许这些离子从表面去除材料。氩气适用于以这种方式使表面略微粗糙。可以通过设置等离子体的能量和压力来控制加速离子的能量。例如,将压力增加 1 毫托罗尔将显着降低离子的碰撞能量(如果碰撞能量没有完全去除)并消除表面等离子体粗糙化效应。

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射频等离子表面处理装置的官能团谱线强度反映了气体离解的程度。圆柱形谐振腔 MPCVD 设备可用于响应增加的沉积压力增加等离子体密度。在衬底阶段可以实现金刚石薄膜的快速生长。提高功率密度的目的是通过改变石英管的位置、腔体的结构以及调谐板的柔性来实现的。石英管放置在沉积台下方,路面附着力增大是什么天气以增加谐振腔中调谐板和调谐活塞的运动范围,以减少等离子体污染并提高沉积速率。

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