由于阈值电压的降低，电晕处理机的技术提高了HEMT器件的饱和电流和跨导，实验值与理论值一致。经电晕清洗设备氧电晕处理后，样品的a和Va均有所下降。从而提高了器件的饱和传导电流，改善了器件的电特性。HEMT中对AlGaN表面进行氧电晕处理，可以有效降低器件电压，提高器件饱和区电流，改善器件大跨导，可有效应用于高性能GaNHEMT器件的制备。。
不同气体的电晕具有不同的性质，电晕处理机的技术如氧电晕氧化性高，可氧化光刻胶反应产生的气体，从而达到清洗效果；刻蚀气体电晕具有良好的各向异性，因此可以满足刻蚀的需要。采用电晕处理技术的真空电晕清洗设备会产生辉光，故称辉光放电处理。真空电晕清洗设备清洗样品表面并使其活化。通过加入特殊气体和加工工艺，使样品达到亲水和疏水的效果。
但需要解决的问题是LCM工艺中存在大量树脂浸渍纤维，电晕处理机的技术产品表面存在空洞和干斑。说明树脂在纤维表面的润湿性将直接影响LCM的成型工艺和制品性能。可考虑采用电晕清洗技术，改善纤维表面的理化性能，增加预制件中纤维的表面自由能，使树脂在相同工艺条件（压力场、温度场等）下充分浸渍纤维表面，提高浸渍均匀性，改善复合材料液态模塑的工艺性能。。电晕清洗可用于电子工业，以提高封装的附着力。
电晕加工技术是集成电路芯片制造领域中一项成熟且不可替代的技术。无论是芯片源离子注入、镀晶还是低温电晕设备，件电晕处理机薄膜表面处理机都可以实现一面超净化，如去除氧化膜、有机物、掩膜等。增加湿度。在半导体工业的生产过程中，硅片上组件表面的感光有机材料制成的光刻胶是用电晕清洗的。在沉降过程开始前，必须用热硫酸和过氧化氢溶液或其他有毒有机溶剂对剩余的光刻胶进行清洗脱胶，这样会造成环境污染。
