耳机听筒的生产过程中引入等离子消洗机进行处理是科技发展的必然趋势，亲水性的基团等离子表面处理仅作用于材料表面，是纳(米)级处理工艺，而且不会改变振膜材料的原本特性，在此基础上，等离子处理设备还能够去除振膜表面的有(机)污染物，通过等离子活(化)作用形成亲水性的基团，有利于提高后续粘接效(果)。
此外，亲水性的区分在沉积LEP前提高ITO的功函数，可以大大提高电荷传输到有机层中。为了避免喷墨分配后LEP溢出到相邻像素的位置，需要对存储槽的边缘结构表面采取控制。本例中的储存槽的边缘必须是不渗透的，或者是疏水。这一任务的难点是ITO要想获得亲水和存储槽的边缘就必须是疏水。等离子表面清洗设备能很容易地解决这些制造难题。。
在微电子封装中，亲水性的基团等离子处理器清洗工艺的选择取决于后续工艺对材料表面的要求、材料表面的原始性能、化学成分以及污染物的性质。等离子清洗中常用的气体包括氩气、氧气、氢气、四氟化碳及其混合物。涂银胶前：基板上的污染物使银胶呈球形，不利于芯片的粘合，更容易在人工刺伤芯片时损坏。高频等离子清洗可以用来进行显着的改进。工作表面粗糙度和亲水性。这种增加有利于银胶平铺和芯片粘合，同时显着节省银胶用量并降低成本。
通过等离子表面处理的优点，亲水性的区分可以提高表面润湿能力，使各种材料可以进行涂覆、电镀等操作，增强粘接强度和结合力，还可以去除有机污染物、油污或润滑脂提高等离子表面处理器的活化均匀性:射频低温等离子处理范围大，可设计成多种形状，特别适用于材料表面改性。通过低温等离子体清洗机的表面处理,材料表面有许多物理和化学变化,或腐蚀现象(由肉眼很难看到),或引入含氧极性基团,亲水性,胶粘剂,和蔼可亲的和性的材料分别改进。
