1、CCP刻蚀（CCP刻蚀机和ICP刻蚀机用途） 低温等离子电源完整性部分解耦规划方法为了保证逻辑电路的正常运行，CCP刻蚀需要将电路电平值的逻辑状态按一定比例表示出来。例如，对于3.3V逻辑，大于2V的高压为逻辑1，小于0.8V的低压为逻辑0。将电容器放置在相邻的设备上，并将其通过电源插头和接地插头连接。通常，电容器充电并存储部分电荷。低温等离子...
2、icp刻蚀是什么（ccp和icp刻蚀设备区别） 近年来，ccp和icp刻蚀设备区别随着 IC 继续向更小的外形尺寸发展，每个芯片可以封装更多的电路。这不仅增加了单位面积的容量，而且还降低了成本并改进了功能。总之，缩小的外形尺寸几乎改善了所有指标。降低了单价和开关功耗，提高了速度。但是随着尺寸的缩小，设备的LEAKAGE CURRENT也随之缩小，...
