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对钝化层蚀刻,对pc有较好附着力的树脂过蚀刻时间却对PID的影响不显著,可能因为其接收天线是铜,而金属层蚀刻时是钨,敏感性不同,同时距离前段器件距离太远。在第二钝化层蚀刻中,同样对过蚀刻时间不敏感,但使用磁场会带来严重的PID问题,相比于没有磁场的工艺,使用磁场能改善蚀刻均匀性,但其带来的过高的等离子体密度对PID有很大影响。

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