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三、离子和工件表面对低温等离子清洗的影响冷等离子清洗通常是指带正电的阳离子的作用,尼龙底材附着力好树脂加速到带负电的表面。这称为工件。表面获得相当大的动能并与粘附在表面上的颗粒物质碰撞并去除。这种现象称为溅射,离子的冲击大大增加了工件表面发生化学反应的可能性。四、低温等离子清洗中紫外线与工件表面的反应紫外线具有很强的光能,可以破坏和破坏附着在工件表面的分子键。此外,紫外光具有高度透明性,可以从工件表面到达深处。几微米。

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2.物理清洗物理清洗常用的气体是氩气。其作用机理是利用等离子体中的离子进行纯物理撞击,附着力好树脂敲除材料表面的原子或附着在材料表面的原子。压力低时,离子的平均自由基变长,储存能量,所以在物理冲击中,离子的能量越高,冲击越大,如果以物理反应为主,反应进行,因此需要控制低压。这将提高清洁(效果)效果。物理清洗机制:物理清洗是半导体封装工艺中(最)常用的等离子清洗方法。

例如,附着力好树脂电子质量小,运动速度快,可以先到达材料表面,使其带负电荷,并对材料表面产生冲击,促进表面吸附的气体分子的解吸或分解,,也有利于引发化学反应,当材料的表面带负电荷,带正电的离子会加速的影响,和溅射效应将删除粒状材料附着在表面,自由基在等离子体的存在是非常重要的清洁,因为自由基容易与物体表面发生化学链式反应,产生新的自由基或进一步分解,最后可能分解成挥发性小分子。

一个典型例子就是使用真空等离子清洗系统对玻璃纤维增强的尼龙材料进行活化处理 。通常 ,这种材料非常难于喷涂,即使是最好的底涂也无济于事 ,但经真空等离子清洗系统活化处理后 ,其喷涂成功率几乎达到 %。

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