面对前所未有的情况，强心苷和皂苷的亲水性比较一些作为替代品而出现的氯代烃类清洗剂、水性清洗剂和烃类溶剂存在毒性大、水处理繁琐、清洗效果不佳、难以干燥、安全性不足等弊端。阻碍了国内清洁行业的发展。另外，目前市场上的超声波清洗机没有重整效果，只能清洗表面可见的一部分，所以工艺上的各种缺陷都会导致等离子表面清洗机等高科技产品的诞生。 .等离子炬用于产生等离子并将其应用于正在处理的产品（以产生冷等离子）。
通过低温等离子体表面处理，皂苷的亲水性材料表面发生多种的物理、化学变化，或产生刻蚀而粗糙，或形成致密的交联层，或引入含氧极性基团，使亲水性、粘结性、可染色性、生物相容性及电性能分别得到改善。在适宜的工艺条件下处理材料表面，使材料的表面形覆和印刷。在电极两端施加交流高频高压，使两电极间的空气产生气体弧光放电而形成等离子区。
等离子体中含有大量的电子、离子、激发原子、分子、自由基等活性粒子。这些活性粒子与高分子材料相互作用，皂苷的亲水性在材料表面引起氧化、还原、开裂、交联和聚合。物理化学反应优化材料的表面性能，提高表面的吸湿性（或疏水性）、染色性、粘附性、抗静电性能和生物相容性。 Plasma 提供高分子材料 PTFE、PE 电池隔膜、硅橡胶和聚酯的表面改性。等离子体工作条件对提高PITFE材料表面的亲水性有显着影响。
经常应用在引线键合，皂苷的亲水性作用机制芯片粘接铜引线框架，PBGA等工艺中。 如果想增强腐蚀效果，就请通入氧气（O2）。通过配合氧气（O2）在真空腔清洗，可有效的去除有机污染物，比如光刻胶等。通入氧气（O2）比较多用于高精密的芯片粘接，光源清洗等工艺。 还有一些比较难去除的氧化物可利用氢气（H2）配合清洗，条件是要在密闭性非常好的真空情况下使用。<...
