在有机清洁应用中，氧等离子体刻蚀氮化硼主要副产物一般包括水、一氧化碳和二氧化碳。基于化学反应的等离子体清洗，清洗速度快，选择性好，对去除有机污染物最有效。缺点是表面会发生氧化。典型的化学等离子体清洗是使用氧等离子体。&EMSP；物理过程：在物理过程中，原子、离子以高能量、高速轰击待清洗物体表面，使分子分解，并用真空泵泵出。
与氩等离子体处理相比，惠州氧等离子体清洗机氧等离子体预处理使聚酯基体表面变化更明显，液滴在镀铜涤纶织物表面的接触角更小，液滴亲水性明显提高。。低温等离子体技术有哪些应用领域？如今，随着科技的发展，科技已经不仅仅是我们所熟悉的。有许多物质广泛应用于科学、经济、医学等领域，低温等离子体就是其中之一。等离子体，如低温，是物质状态的名称。物质有三种：固体、液体和气体。除了固体、液体和气体外，其他物质现在都被描述为低温等离子体。
但由于其能量远低于辐射，惠州氧等离子体清洗机等离子体处理只发生在衬底表面，不会损伤衬底。刻蚀-沉积是等离子体作用于被处理材料表面的一对相反而同时发生的化学反应。经氧等离子体处理后的导尿管表面包裹膜的化学结构与橡胶材料相似。这在实际应用中是有益的，因为它可以避免表面处理带来的有害副作用。未经处理的导管表面接触角为84°；氧等离子体处理后67℃；处理后接触角减小17℃；这说明导尿管的亲水性得到了很好的改善。
在机械行业，惠州氧等离子体清洗机硬质耐磨涂层、耐腐蚀涂层、热障涂层和固体润滑涂层的生产方面有很多研究和应用，其中TiNi涂层刀具的推广引起了切削领域的一场革命，金刚石膜和立方氮化硼膜的研究也很热，并已推广到实用化。在不同PVD和CVD工艺的基础上，开发和重组了许多新的工艺和设备，如IBAD、PCVD和空心阴极多弧复合和离子镀装置，离子注入和油溅射或蒸发复合装置，等离子体浸没式离子注入装置等。
