等离子清洗机不是什么脏东西就能洗掉的，氮化硅和氧化硅的亲水性它更有针对性地去除一些物质和材料表面改性处理。从名称上看，清洁不是清洁，而是治疗和反应。从机理上看，等离子体清洗机在电压和磁场作用下，通过工作气体激发的离子与物体表面发生物理化学反应。金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚酯、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧甚至聚四氟乙烯，在等离子体清洗过程中都很容易处理。
双极电池的核心部件之一，氧化硅的亲水性原理具有如下功能：(1)氧化剂和还原剂分隔；(2)收集电流，负责电池系统冷却；(3)提供可流动的反应气体和水通道；4)支撑膜电极。所以，理想的双极板材料必须是具有良好气阻、耐腐蚀、低密度、高强度的电、热良导体，并且容易加工成型和大规模生产。 一些电池的电极板是用镀在金属片上的正负电极材料制成的，当金属片被镀在电极材料上时，需要用等离子处理器产生的等离子体干洗功能来清洗金属片。
plasma设备清洗技术较大的特征 是能够解决金属、半导体、氧化物和大多数聚合物，氮化硅和氧化硅的亲水性如PP.聚酯、聚酰亚胺、聚酰亚胺、环氧树脂甚至聚四氟乙烯，无论解决对象的基材类型如何。 等离子分高、低温等离子两种。所有组分在2000-4000K时，高温等离子体的气温都达到了平衡。高聚物在这种高温下，会对其自身造成严重破坏。
同理，氮化硅和氧化硅的亲水性在高压刻蚀模式下，除了电子温度降低导致离子散射的问题外，刻蚀均匀性随着气体停留时间的增加而变差，因此需要结合其他复杂的均匀性提升方法来解决问题。有。问题。问题。为了解决上述问题，并满足对特征尺寸缩小的严格要求，等离...
