对两类气体组合的压力和射频功率对蚀刻率的影响：两种组合都是压力越大蚀刻率越低，流平剂对附着力影响这与我们一般的蚀刻规律一致，因为压力增大会增加等离子体的碰撞和湮灭几率，降低等离子体能量，使得蚀刻率下降。而一般来说，射频功率越高蚀刻率则越快，这是因为等离子体的解离率会变高。 这几种蚀刻的方式较为常见，研究得也较透彻，报道也很多。相比之下，在鳍式场效应晶体管的制作中，尽管有过铟镓砷的报道，但相关的蚀刻细节却不曾被披露。
气流量的大小对清洗的影响较大，油墨流平剂对附着力影响等离子清洗机在清洗中，要保持一定的真空度(0.1-0.2torr)才能产生辉光进行清洗，在0.1-0.2torr真空度下对于清洗的效(果)都是相同的。在真空度越低的状态下，相对的辉光较强。
等离子体电离辐射的主要是源于是等离子体中颗粒运动状态的变化，油墨流平剂对附着力影响尤其是电子体。除了束缚电子，还有自由电子可以连续改变动能。当其与其他粒子碰撞或受到其他外场影响时，它会改变运动状态，并随着能量状态的变化而发生跳跃电离辐射。在大气压等离子体处理机中，对等离子体电离辐射的研究很重要。
等离子体刻蚀机在半导体封装领域的应用；等离子刻蚀机在半导体工业中的应用！集成电路中引线键合的质量对微电子器件的可靠性有决定性的影响。键合区域必须无污染物，流平剂对附着力影响并具有良好的键合特性。氧化物和有机残留物等污染物的存在会严重削弱引线键合的张力值。传统的湿式清洗无法完全或无法去除键合区的污染物，而等离子刻蚀机可以有效去除键合区的表面污染并活化其表面，可以显著提高引线的键合张力，大大提高封装设备的可靠性。
