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因此,济南电晕表面处理装置当装置减小到一定程度时,泄漏就不会得到控制。然后是0.25&亩;M时代,由于TEOS氧化硅侧壁不能满足工艺需要,后来发展为氮化硅侧壁。氮化硅侧壁也被称为氮化硅侧壁或氧化硅/氮化硅(ON)侧壁,因为氮化硅侧壁的蚀刻可以在下面的氧化硅层上停止,所以对硅没有影响。至0.18&亩;在M时代,这种氮化硅侧壁应力过大,会造成饱和电流减小,漏电流增大。

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通常的排气时间大约需要2分钟。(2)将清洗用气体引入真空室,济南电晕机保持压力在Pa。根据清洗材料的不同,可选择氧气、氢气、氩气或氮气。(3)在真空室内电极与接地装置之间施加高频电压破坏气体,通过灿烂放电产生电离和电晕。真空室产生的电晕完全喷射到物体表面,开始清洗作业。通常清洗过程持续几十秒到几分钟。(4)清洗后,切断高频电压,排出气体,蒸发污物,同时将空气吹入真空室,使空气压力升至大气压。

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