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涂层和底材附着力影响因素

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利用等离子体可以有效去除精密构件表面的杂质颗粒,底材附着力比较高吗这主要是基于等离子体的宽谱辐照效应和冲击波效应。脉冲能量被有效地传递给衬底材料和表面的杂质颗粒,导致衬底和颗粒之间由于热膨胀程度不同而发生剥离。等离子体处理产生的巨大冲击力将进一步克服颗粒与基体表面的吸附力,实现杂质颗粒的完全去除。

有机物衬底材料取出后,涂层和底材附着力影响因素各向异性的氧化硅蚀刻会去除沟槽顶部、底部的薄膜但在侧壁特别是角落有残留,如果氧化硅/氮化钛选择比低于15∶1,等离子清洗机等离子表面处理机增加蚀刻时间反而会打开底部氮化钛引起严重的衬底材料损失。可是过高选择比的等离子清洗机等离子表面处理机等离子体蚀刻工艺会引起较倾斜的坡面形状,均匀性也比较难以控制。

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