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特氟龙等离子清洗设备

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特氟龙等离子体清洁机

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就反应机理而言,特氟龙等离子体清洁机等离子体清洗通常包括以下过程:无机气体被激发成等离子体态;气相物质吸附在固体表面;吸附基团与固体表面分子反应形成产物分子;产物分子分解形成气相;反应残留物从表面除去。等离子清洗技术的最大特点是无论被处理对象的基材类型如何,都可以进行处理。它可以处理金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料,如聚丙烯、聚酯、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧,甚至聚四氟乙烯等,可以实现整体、局部和复杂结构的清洗。

特氟龙等离子体刻蚀设备

特氟龙等离子体刻蚀设备

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等离子清洗机进行表面处理比常规清洗方法具有许多突出的技术优势,如:1.处理温度低2.运营成本低3.治疗过程中不需要额外的辅助物品和条...

特氟龙等离子清洗设备(特氟龙等离子体表面处理)

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