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等离子体清洗时,等离子体的原理和对象的表面清洗互动,一方面,利用等离子体或等离子体激活化学活性物质和材料表面污垢的化学反应,如活性氧在等离子体和有机物质表面的物质氧化反应。等离子体与材料表面的有机污物作用,聚氨酯胶与环氧底漆附着力将有机污物分解成二氧化碳、水等。另一方面,等离子体高能粒子被用来轰击污垢和其他物理效应。例如,活性氩气等离子体用于清除物体表面的污垢。轰击后形成挥发性污物,由真空泵排出。

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聚合物、包括形状不一的槽孔和狭长的孔洞内的微粒,底漆附着力更好吗使用等离子可以轻而易举清洗掉。众所周知,如果孔洞变锋利了,金属液体就很难注入,这是因为尖角会增加表面张力,从而影响金属液体的流动,等离子清洗可以清除深孔或其它深度光刻胶等残留物。。等离子表面处理机等离子清洗机3DNAND中的蚀刻工艺:相比平面NAND闪存工艺,3DNAND由于器件结构发生巨大变化,相应的等离子表面处理机等离子清洗机蚀刻工艺也与以往大不相同。

在清洗过程中,聚氨酯胶与环氧底漆附着力等离子体中化学活性成分的浓度越高,清洗效果就越好。用等离子射流清洗玻璃表面,除机械作用外,主要是活性氧的化学作用,即等离子体中Ar*的激发态。激发氧分子到激发氧原子Ar * + O2 → O + O * + Ar (1) Ar * + O → O + Ar (2)高能电子与氧分子碰撞并分解形成激发态氧原子。

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