而且电晕处理后的衬底表面具有一定的活化官能团，电除尘反电晕处理有助于制作嵌入式电阻器的化学反应。制作电阻层，衬底表面用电晕处理。退膜工艺后，镍磷电阻层与基底表面的结合力完好无损；而在未经过电晕处理的衬底表面，镍磷电阻层经过剥膜工艺后不能很好地与衬底结合，电阻层几乎全部脱落。
电晕是物质的一种状态，电除尘反电晕处理也叫物质的第四态，不属于常见的固、液、气三种状态。施加足够的能量使气体电离，就变成了电晕状态。血浆&ldquo；活动&rdquo；成分包括：离子、电子、原子、活性基团、激发态核素（亚稳态）、光子等，电晕（点击查看详情）就是利用这些活性成分的性质对样品表面进行处理，从而达到清洗、包覆等目的。
电晕设备是干洗，电除尘反电晕处理办法通过电晕的活性颗粒&ldquo；刺激（激活）功能；去除工件表面的污渍，去除工作过程中基体材料中的无机污垢或弱键及其共-CH基（有机）污染和氧化物，提高润湿性，去除残留物，只配合材料表面（改性只发生在材料表层，对内部无侵蚀，不影响基体固有性能，处理均匀。电晕设备的清洗过程可在几分钟内实现，是一种高效、高速的表面改性机械设备。
在下电极RF的作用下，电除尘反电晕处理办法在衬底表面发生跃迁，衬底图形区半导体器件的离子键断裂，与刻蚀蒸气产生挥发性物质，使蒸气与衬底分离，拉走真空管。在相同条件下，氧电晕的清洗效果优于氮电晕。如果需要蚀刻，蚀刻后需要清除污垢、浮渣、表面处理、电晕聚合、电晕灰化或任何其他蚀刻应用，我们可以根据客户要求生产安全可靠的电晕技术。
电除尘反电晕处理
