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真空活化原理

在真空等离子设备的清洗过程中,真空活化机除了形成低温等离子体的化学变化外,低温等离子体还与原料表面形成物理反应。低温等离子体粒子可以将原料表面或原料附着表面的原子敲掉,有利于清洗蚀刻反应。

真空活化机

它们也可以被原子结构的力学所操纵表面基板的损坏。这些表面基团后来可能参与表面反应和成键。真空等离子体处理是一种低温工艺,真空活化机作用一般为40~120C,可以避免热损伤。这个过程产生一个热自由表面激活反应,它不会在大气压力下发生,这取决于分子的化学成分。这些独特的特性可以为材料和产品开辟新的可能性。等离子体处理是在一个受控的环境中,在一个密封的腔室中进行,引入选定的气体,以保持腔室处于中等真空,通常为13至65Nm2。

研究了氧等离子体和空气等离子体(频率13.56mhz,真空活化机作用真空度1TORr,充放电输出功率100 W)处理棉织物芯吸收性能与工艺标准的关系。对棉织物进行大气等离子清洗60秒,氧等离子处理30秒。棉织物的脱蜡、脱浆效果(果)达到了正常沸腾漂白的程度。

其基本原理是在真空低压下,真空活化机ICP射频电源向环形耦合线圈产生有一定份额的射频输出通过耦合辉光放电腐蚀气体混合,高密度等离子体,我电极射频等离子体的作用下在衬底表面进行炮击,衬底图形区域半导体材料的化学键被中断,和蚀刻气体生成的挥发性物质,以气体的形式从衬底,远离真空管。蚀刻机与光刻机的区别蚀刻比光刻容易。光刻机打印图片,蚀刻机从打印的图片上切下有(或没有)图片的部分,剩下的部分留下。。

真空活化机

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