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硅和二氧化硅亲水性

清洗和蚀刻:去除工件表面的看不见的有机污染物、表面吸附层和薄膜层。超精密清洗工艺可以解决工件表面的粘附问题。例如在清洗时,电感耦合等离子体刻蚀硅和二氧化硅比工作气体往往是氧气,它通过加速电子与氧离子和自由基碰撞后被高度氧化。工作表面上的污垢,如油脂助焊剂、感光膜、脱模剂、冲头油等很快被氧化成二氧化碳和水,用真空泵抽出,目的是清洁表面,提高润湿性和附着力。冷等离子处理只涉及材料的表面,不影响材料的大部分性能。

二氧化硅清洗机

甲烷转化率从 43.4% 下降到 24%,二氧化硅清洗机但 C2 烃的收率从 13.4% 提高到 17.6%。 LA2O3 改善二氧化碳。转化率,但 CO 产量降低:当 LA2O3 负载量从 2% 变化到 12% 时,CH4 转化率和 C2 烃产率峰形略有变化,但对 CO2 转化率和 CO 产率影响不大。

二氧化碳转化顺序如下: NI0 / Y-AL2O3> TIO2 / Y-AL2O3> CO2O3 / Y-AL2O3> NA2WO4 /Y-AL2O3 & ASYMP; FE2O3 / Y-AL2O3> RE2O7 / Y-AL2O3 & ASYMP; CR2O3 / Y-AL2O3> MN2O3 / Y-AL2O3 & ASYMP; MOO3 / Y-AL2O3> ZNO / Y-AL2O3。

清洗等离子处理设备的目的是去除静电感应、灰尘和表面油性残留物等污染物。等离子清洗机的精细加工可以完全清洁材料表面,二氧化硅清洗机即使是小颗粒。或者它被放置在表面的孔隙结构中。它被冲走了。等离子清洗机、精细清洗、高效活化等离子清洗机不仅可用于产品清洗,还可用于蚀刻工艺、灰化、表面活性刺激等一般工业生产行业。 等离子清洗机通常用于以下应用: 1。

1、氧化硅的亲水性原理(氮化硅和氧化硅的亲水性)

2、铝的亲水性好还是铜(氧化硅和氧化铝的亲水性)

3、二氧化硅附着力促进剂(二氧化硅和油墨附着力)