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硅氧化层的亲水性

在辉光放电的情况下,二氧化硅为啥是亲水性等离子体在电场下被加速,因此等离子体在电场下被加速。在电场的作用下,等离子体高速运动并与物体表面发生物理碰撞。能量等离子体的量足以去除各种污染物。同时,氧离子可以将有机污染物氧化成二氧化碳和水蒸气,可以排出机舱。等离子清洗不需要其他原料,使用方便,干净,只要空气、氧气、氢气、氮气等气体满足要求,就比其他清洗机有很多优点。等离子不仅可以清洁表面,还可以提高表面的活性。

二氧化硅氧化层亲水性

当这些氧等离子体喷射到材料表面时,二氧化硅为啥是亲水性就可以与基体表面的有机污染物碳分子分离,变成二氧化碳再去除。同时有效提高了材料的表面接触性能,增强了强度和可靠性。常压等离子清洗机在数码行业中的应用:作为一种替代金属的新材料,塑料表面上漆并不容易。消费者往往在不到一个月的时间里就对一部手机、笔记本电脑或数码相机做出反应。如果用其他化学方法处理,价格高,污染大。

二氧化碳转化顺序如下: Ni0 / Y-Al2O3> TiO2 / Y-Al2O3> Co2O3 / Y-Al2O3> Na2WO4 / Y-Al2O3 ≈ Fe2O3 / Y-Al2O3> Re2O7 / Y-Al2O3 ≈ Cr2O3 / Y-Al2O3> Mn2O3 / Y-Al2O3 & asymp;MoO3/Y-Al2O3>ZnO/Y-Al2O3。

高能电子撞击氧分子使其分解,二氧化硅氧化层亲水性形成被激发态氧原子污染的润滑油和硬脂酸。润滑油和硬脂酸的主要成分是碳氢化合物,它们被活性氧物种氧化生成二氧化碳和水,从而去除玻璃表面的油脂。玻璃手机面板化学增韧前的清洗过程非常复杂。针电极预电离产生的非平衡Ar/O2大气压等离子体射流,清洗工艺简单方便。用接触角仪测定了被润滑油和硬脂酸污染的玻璃面板...

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