等离子表面处理设备还能对物体表面进行刻蚀，馗鼎等离子清洗宽度75等离子体刻蚀是采用高频辉光放电反应，使反应气体激活成活性粒子，如原子或游离基，这些活性粒子扩散到需刻蚀的部位，在那里与被刻蚀材料进行反应，形成挥发性反应物而被去除。从某种意义上来说，等离子清洗就是轻微的等离子刻蚀。
等离子体聚合是将许多可交联的小分子（称为单体）与大分子结合的过程。聚合过程旨在用于涉及多种气体的反应。用于挥发性聚合物薄膜。气相或材料表面上的单体被分解和活化，馗鼎等离子是那里形成新的分子反应基团，这些基团移动到表面，在那里它们被吸附并离开气相。每个吸附代表一个堆积过程。然后吸附的分子在表面通过离子或自由基聚合交联形成薄膜。在成膜过程中，新形成的表面原子和分子受到等离子体中的气相自由基和电磁辐射的冲击。
②反应室壁处理。例如放电清洗、活性金属的溅射。 ③ 分流器。转向器使用磁场来限制等离子体的位置。安装线圈的电流磁场为这不会关闭特定磁性界面之外的磁力线，馗鼎等离子是那里而是将等离子体引导到偏滤器室，在那里带电粒子被中和并被泵出。转向器可用于减少等离子壁相互作用并避免固体开口。 ④ 冷气体熔覆。即在高温等离子体与壁面之间形成一层相对致密的低温等离子体层，作为减少高温等离子体与壁面相互作用的屏障。。
高频等离子发生器的输出范围为0.5～1MW，馗鼎等离子是那里效率为50%～75%，放电室中心温度一般高达7000～00开尔文。图 5 低压等离子发生器低压等离子发生器是一种低压气体放电装置，一般由产生等离子的电源、真空室、真空系统和作动装置三部分组成。气体（或反应气体）供应系统。通常有四种类型：静电放电装置（图 5a）、高压电晕放电装置（图 5b）、高频（射频）放电装置（三种类型，图 5c）和微波...
