近几十年来人们在荷叶，微纳结构的亲水性情况水黾腿，蝴蝶翅膀等自然界中超疏水性组织和器官的启发下，研究了各种各样的超疏水纳米涂层材料，超疏水纳米涂层材料的设计和研发的目标不仅在于模仿生物的功能结构，更主要的是制备组分和结构均可调的超疏水表面。超疏水纳米涂层材料具有特殊微纳米结构，因此有疏水自清洁性，防污染等一系列优异性能，同时在强度、耐热、耐酸碱等性能方面又十分优异的新材料。
3、运行简单、安全。4、设计简洁、美观。5、产品性价比高。微波等离子体去胶机是半导体行业必不可少的设备，微纳结构的亲水性情况从事微纳加工工艺研究，主要用于半导体及其他薄膜加工工艺过程中，各种光刻胶的干燥去除、基片清洗、电子元件的开封等。研究方向：等离子体表面改性，有机物质表面等离子清洁，等离子体蚀刻，等离子体灰化，增强或减弱浸润性等。
等离子清洗过程涉及许多影响颗粒并直接影响去除效果的复杂物理过程，微纳结构亲水性如等离子的产生和沉积能量的积累。直径为10～2纳米的颗粒分布在硅衬底表面，除极小的纳米颗粒外，大部分颗粒在等离子体的作用下被去除。等离子冲击波对去除微纳米颗粒的影响非常明显。直径大于 0.5 μm 的颗粒被完全去除，但小于该尺寸的颗粒基本去除了原始数量的 50% 左右。
在集成电路或MEMS微纳米加工前道工序中，微纳结构的亲水性情况晶圆表面会涂上光刻胶，然后光刻，显影，但光刻胶只是图形转化的媒介，当光刻后在光刻胶上形成微纳米图形后，需要进行下一步的生长或刻蚀的工艺，之后需要用某种方法把光刻胶去除。等离子清洗机又称等离子体去胶机可实现此功能。
微纳结构的亲水性情况
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