产生挥发性物质并用真空泵将其吸走。挥发物用于清洁目的。然而，蜡附着力促进剂“表面清洗”是等离子清洗机技术的中心，这也是很多企业选择等离子清洗机的重点。 “表面清洗”与等离子设备和等离子表面处理设备的名称密切相关。简单来说，表面清洁就是在被加工材料表面形成一层新的氧化膜，同时形成无数肉眼看不见的小孔。这样，被加工材料的表面积显着增加，间接增加了材料表面的粘合性、相容性、润湿性、分散性等。
plasma等离子体与催化剂共同作用下CO2氧化CH制C2烃反应研究结果表明：La203/Y-Al203可显著提高C2烃产物选择性，蜡附着力促进剂在相同等离子体条件下，其C2烃产物选择性比Y-Al203高出40个百分点，因此C2烃产物收率高；负载型金属催化剂Pd/Y-Al203虽然对C2烃产物收率影响不大，但可明显改变C2烃产物分布，微负载量的Pd可明显提高C2H2在C2烃产物中摩尔分数。
等离子清洗机又称等离子蚀刻机、等离子打胶机、等离子活化剂、等离子清洗机、等离子表面处理器、等离子清洗系统等。等离子处理器广泛应用于等离子清洗、等离子蚀刻、等离子晶片脱胶、等离子镀膜、等离子灰化、等离子活化和等离子表面处理等领域。在IC封装过程中，蜡附着力促进剂采用等离子清洗机，可以有效去除材料表面的有机残留物、颗粒污染、氧化物薄层，提高工件表面活性，避免焊缝层和虚拟焊接。。
