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膜厚与附着力的关系

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该领域被广泛使用。在晶圆制造中可以使用氮化硅代替氧化硅。由于其硬度高,电泳膜厚与附着力关系大吗可以在晶圆表面形成一层非常薄的氮化硅薄膜(在硅片制造中,常用的薄膜厚度单位是埃)。厚度约为几十埃,可保护表面,防止划伤。此外,由于其优异的介电强度和抗氧化能力,可以获得足够的绝缘效果。缺点是氧化物越多,流动性越少,蚀刻越困难。有了等离子蚀刻设备的技术,就可以克服蚀刻的难点。

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