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根据该模型,龙兴模型蚀刻片怎么样NBTI失效时间如下:F = A0exp (-ϒE) exp (Ea / kBT) (7-13) 表示的公式中,A0 = [1 / C (△ Vth / Vth) crit] 1 / m (7-14) C0 是一个 A与 Si/SiO2 界面处的 Si-H 键浓度成比例的常数。 m 是时间 t 的幂律指数,一般 m = 0.15 到 0.35。

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由式(7-14)可以看出,龙兴模型蚀刻片怎么样失效前的时间系数A0正向依赖于参数劣化临界值,反之依赖于Si/SiO2界面处的Si-H键浓度。如果 C0 趋于 0,则 NBTI 失效时间是无限的。 NBTI退化的饱和现象也可以用反应扩散模型来解释。这是因为随着时间的推移,Si-H 键的数量受到限制,未切割的 Si-H 数量减少,SH 引起的降解率降低。伤害也减少并接近于零。

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