等离子体清洗/蚀刻机产生等离子体设备设置在密闭容器中,两个电极形成电场与真空泵达到一定程度的真空,天然气越来越薄,分子之间的距离和自由流动的分子或离子之间的距离也越来越长,在电场作用下，蚀刻素描板它们相互碰撞形成等离子体，然后产生辉光，这就是所谓的辉光放电疗法。等离子体的产生机理包括电离反应、带电粒子输运和电磁运动学。等离子体的产生和气化伴随着电子、粒子和中性粒子的碰撞。等离子体中粒子的碰撞产生活性成分。
等离子体蚀刻对PID的影响:等离子体诱导损伤(Plasmae Induced Damage, PID)是指在IC制造过程中，蚀刻素描板玩具各种等离子体工艺引起的MOSFET性能偏差。在等离子体环境中，放电产生大量的离子和电子，离子由于电极电位或等离子体自偏置而加速向晶圆表面移动，对衬底进行物理轰击，促进表面的化学反应。
在手机生产的过程中，蚀刻素描板玩具表带很多用硅胶，表盘有的用陶瓷加工，上面需要打印数字，打上标志，没有等离子，直接打印会出现油漆褪色的问题。等离子体处理前的工作可以很好的解决这些问题，等离子体清洗机可以实现大多数水基涂布系统无需涂布底漆。采用等离子技术，使手表配件的印刷工艺更稳定，效率更高，对材料无磨损。等离子体处理可以有效去除钻孔后的有机碳化物，并对孔壁内部进行轻微的蚀刻，从而提高镀铜壁基材的结合强度。
2、表面蚀刻经过等离子体处理后，蚀刻素描板材料表面的一些化学键断裂，使材料表面变得不平整，会增加粗糙度。表面活化在等离子体的作用下，材料表面会出现一些活性原子、自由基和不饱和键。这些活性基因会与血浆中的颗粒发生反应，从而达到表面活化的效果。等离子体表面活化剂在半导体领域的应用:1、陶瓷封装2。铅焊3、加工前芯片焊4。机架表面处理5、半导体封装6、晶圆预处理7...
