物理清洗：表面反应以物理反应为主的等离子清洗。也称为溅射蚀刻 (SPE)。例：Ar + e- → Ar ++ 2e-Ar ++ 污染 → 挥发性污染 Ar + 在自偏压或外加偏压的作用下加速产生动能，蚀刻芯片与光刻芯片的比较然后一般去除氧化物。清洁工件用于。 ，环氧树脂溢出或颗粒污染物，表面能活化等离子清洗机是利用低温等离子的特性对被处理材料进行等离子表面处理的设备。
在等离子去污中，蚀刻芯片是什么将面板置于真空箱中，从电源引入气体，将其转化为等离子体，等离子体在面板表面发生反应，真空泵将挥发性树脂的污染去除。等离子表面处理设备的去污研究较多。研究人员研究了等离子机腔的蚀刻速率分布和我们确定了刻蚀速率与时间的关系，确定了刚挠板中聚酰亚胺、丙烯酸粘合剂和环氧树脂三种材料的刻蚀速率与等离子体参数的关系。
.. 2.表面活化（化学）溶液通过等离子表面处理机后，蚀刻芯片表面能、亲水性、粘附性和粘附性都有所提高。 3.表面蚀刻液 材料表面通过反应性气体等离子体选择性蚀刻，蚀刻后的材料转化为气相并由真空泵排出。处理后材料的微观比表面积增加，亲水性好。四。在用等离子清洁剂处理纳米（米）涂层溶液后，等离子引导聚合形成纳米（米）涂层。
利用等离子体技术的活性物理、化学和电磁流体特性，蚀刻芯片与光刻芯片的比较可以在高生产速度、高能量和无污染的情...
