石英加热管中的强磁场使 O2 电离，划痕法测附着力数据分析产生氧离子和（活化）氧。由原子、氧分子和电子混合而成的等离子体辉光柱。原子氧（活化）能迅速将聚酰亚胺薄膜氧化成易挥发的气体，通过机械泵抽出，从而去除硅块上的聚酰亚胺薄膜。 等离子脱胶的优点是脱胶操作简单、脱胶效率高、表面清洁、无划痕、成本低、环保。等离子脱胶机通常使用电容耦合等离子平行板反应器。
随着微电子行业的快速发展，划痕法测附着力数据分析等离子清洗机越来越多地应用于半导体行业。等离子清洗具有工艺简单、操作方便、无废物处理、无环境污染等优点。等离子清洗通常用于光刻胶去除工艺。将少量氧气引入等离子体反应系统。在强电场的作用下，氧气产生等离子体，将光刻胶迅速氧化成挥发性气体，并被抽出。这种清洗技术具有操作方便、效率高、表面清洁、无划痕等优点，有利于保证产品的质量。并且不使用酸、碱、有机溶剂，越来越受到人们的关注。
等离子清洗技术简单，划痕法测附着力操作方便，无废弃物处理，对环境无污染。等离子体清洗是去除光阻剂的常用方法。少量的氧气被引入等离子体反应系统。在强电场的作用下，氧气产生等离子体，等离子体迅速将光刻胶氧化成挥发性气体，被抽走。这种清洗技术具有操作方便、效率高、表面干净、无划痕等优点，有利于保证产品质量。而不使用酸、碱、有机溶剂，越来越受到人们的重视。下面简单介绍一下半导体的杂质和分类:半导体制造需要一些有机和无机材料。
在等离子体反应体系中加入少量O2，划痕法测附着力数据分析在强电磁场作用下产生等离子体，使光刻胶迅速氧化为挥发性气体。本清洗工艺操作简单，效率高，表面清洁，无划痕，有利于保证产品质量。成峰等离子体清洗机无酸、碱、溶剂等，因此越来越受到人们的重视。半导体污染；杂质；分类；半导体生产需要一些有机和无...
