光刻晶圆工艺是整个晶圆代工过程中的一个重要工序。该方法的原理是将一层高光敏感度的阻光层覆盖在晶圆片的表面,甘肃等离子式除胶渣机视频大全然后将光线透过掩模照射到晶圆片表面,被光线照射的阻光剂就会起反应,从而实现电路的移动。晶圆刻蚀:就是把晶圆表面区域用光阻剂显露出来的过程。它主要分为两种:湿式蚀刻和干式。简而言之,湿式刻蚀仅限于2微米的图形尺寸,而干式刻蚀则用于更为精细、要求更高的电路。

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2、结晶度高 难粘塑料分子链结构规整,甘肃等离子式除胶渣机视频大全结晶度较高,化学键定性好,它们的溶胀和溶解都比非结晶高分子困难,当与溶剂型胶粘剂粘接时,很难发生高聚物分子链的扩散和相互缠结,不能形成很强的黏附力。 3、分子链呈非极性 PE分子链不带任何极性基团,是非极性高分子;PP分子结构单元中有-CH3但-CH3是非常弱的极性基团,所以PP基本上属于非极性高分子;PTFE等氟塑料,因结构高度对称,也属非极性高分子。

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  我们在工业应用中发现一些橡胶塑料件在进行表面连接的时候会出现粘接困难的问题,这是因为聚丙烯、PTFE等橡胶塑料材料是没有极性的,这些材料在未经过表面处理的状态下进行的印刷、粘合、涂覆等效果非常差,甚至无法进行。

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