一般的等离子体粒子的能量在十几到几十个eV(电子伏特),表面改性工艺和设备而鞋用高分子材料中常见的化学键的键能为C-H (碳氢键) 4.3eV,C=O(碳氧键)8.0eV,C-C(碳碳单键)3.4eV,C-C(碳碳双键)6.1eV。因此等离子体中的大部分粒子所携带的能量远高于这些化学键能,它们有足够的能量,引起鞋用高分子材料表面的各种化学键发生断裂或重新组合。

表面改性工艺和设备

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表 4-3 活化方式比较(单位:%) 活化方式 XCOGXCHSCYCYC、HYCO 等离子 20.226.547.912.71.633.2 催化 3.72.197.02.0> 2.0 等离子催化剂 22.024.972.718.113.828.6。等离子清洗机工作原理:以气体为清洗介质,表面改性工艺和设备可有效避免液体清洗介质对被清洗物体的二次污染。通过外部真空泵,清洗室中的等离子体对被清洗物体的表面进行清洗。

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深圳与德国PLASMA TECHNOLOGY等离子设备制造商合作,也是中国的独家代理,建立了长久的友谊。等离子清洗设备主要用于清洗、蚀刻、抛光和表面处理。采用三种不同的高频发射器,满足不同的清洗效率和清洗效果需求。等离子清洗设备的特点是成本低、操作灵活。它被用于各个领域。

超声波清洗机和等离子清洗机区别是什么?等离子清洗机分为国产和进口两种,主要是针对客户的要求来进行选择配置的。下面深圳 等离子设备专家给您介绍超声波清洗机和等离子清洗机区别是什么应用。

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真空等离子清洗机常压等离子清洗机一般情况,气体放电产生等离子体,只能在很低的压强甚至是真空中产生并稳定存在,因此低压等离子体必须要具备抽真空的设备。真空等离子清洗机的优势有以下方面,所需要的击穿电压低;状态稳定;电子温度为中性温度;离子浓度和自由基浓度相对较髙,有效的与物体发生聚合或刻蚀反应;气体量增大的条件下也能产生稳定的辉光放电。

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轰击的能量取决于功率、RF或直流电流的放电特性,表面改性工艺和设备以及要清洗的材料的性质(如绝缘或导电)。例如,O2放电产生的离子和电子器件轰击材料外层,不仅能释放杂质,还能在外层生成挥发性物质,从而达到清洁的目的。氩等离子体设备的清洗可以有效地减少某些材料在较长时期内的有机污染。与传统清洗技术相比,等离子清洗能有效去除碳垢,且对材料性能影响较小。

一、根据待处理材料的特性:不同的材料会有不同的特性,深圳等离子体表面改性设备如产品形状、风化温度、容量要求甚至生产环境要求等。这些因素在一定程度上会对设备的选择起到决定性的作用。二、选择合适的治疗方法普通的等离子清洗机设备有常压式和真空式两种处理方式,其中有更多的细分。不同的处理方法和处理设备不容忽视,处理方法的选择在很大程度上取决于所期望的处理效果。三、选择信得过的装备品牌。