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经过等离子体处理的物体表面往往形成许多新的活性基团，漆膜附着力划格试验标准使物体表面发生“活化”而改变性能，可以大大改善物体表面的浸润性能和黏着性能，这对许多材料是非常重要的。。在等离子除胶机的增强刻蚀中，当高能颗粒撞击表面时，表面会形成缺陷、位错或悬浮。这些缺陷提高了表面的化学反应刻蚀速率，使得这种等离子除胶机的刻蚀过程具有选择性和方向性。
它既可运用热水清洗，附着力划圈法图片也可运用冷水清洗，根据被清洗物体不同挑选不同的清洗方法。这种高压等离子清洗机，它的高压泵的质量更好，结构也较凌乱，造价也较高，是高端用户的挑选。。常用的等离子体激发频率有三种：激发频率为40kHz的等离子体为超声等离子体，13.56MHz的等离子体为射频等离子体，2.45GHz的等离子体为微波等离子体。
主要控制要求是光致抗蚀剂压下工艺各周期压下尺寸的均匀性、边缘粗糙度控制、整片晶圆上压下尺寸的均匀性、SiO2/Si3N4蚀刻工艺中光致抗蚀剂的选择性。台阶宽度的精度决定了后续接触孔能否正确连接到指定的控制网格层。由于要求每一步的宽度（即每一个控制栅层的延伸尺寸）为数百纳米，附着力划圈法图片以便后续的接触孔能够安全、准确地落在所需的控制栅层上，因此循环工艺中的每一个光刻胶掩模层缩减工艺需要单边缩减数百纳米。
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这些新的自由基也以高能态存在，极不稳定，极易分解，变化如下。新的自由基与较小的自由基同时产生。这个过程一直持续到它分解成稳定的、易挥发的、简单的小分子，最终从金属表面释放污染物。在这个过程中，大量的结合能在自由基与表面污垢分子结合的过程中释放出来，出现在自由基活化过程中的能量转移中，释放的能量引起表面污垢新的活化反应。用于促进的分子。在等离子体激活下促进更彻底去除污染物的能力。
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