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等离子清洗机是利用等离子体达到常规清洗所不能达到的效果，微晶玻璃丝印附着力不佳比如说等离子体的活性组分是离子，电子和光子等组成，那么它所达到的清洗效果肯定和一般的超声波清洗机之类的清洗产品是不一样的。等离子清洗机利用这些离子和光子等活性组分来处理工件的表面，而达到清洗的目的，很显然这样的清洗效果要比普通的清洗来得更加的好。
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自动化离子清洗设备采用数控技术，自动化程度高；具有高精度的控制装置，时间控制的精度很高；正确的等离子体清洗不会在表面产生损伤层，表面质量得到保证；采用气体作为清洗介质, 在真空中进行，不污染环境，可有效避免液体清洗介质对清洗物体的二次污染；自动化清洗系统可在工业清洗过程中实现机械化自动清洗，不需人工清洗，为生产企业节省了大量人力，大大降低了企业用人成本、生产时间成本。
铅污染治理技术目前处理铅污染的方法主要采用紫外线或等离子清洗，这两种方法都对铅清洗具有独特的适用性，并且需要根据特定的工艺进行特定的选择。干洗在这方面优势明显，因为湿洗清洗后会造成环境和二次污染。等离子体中的活性粒子“活化”，可以有效去除物体表面的污染物，达到清洗的目的，即等离子体清洗。等离子是等离子清洗机的必要条件，等离子吸附在被清洗物体的表面。
超声等离子体的自偏压约为0V，低温宽等离子体清洗机射频等离子体的自偏压约为250V，微波等离子体的自偏压很低，只有几十伏，三种等离子体的机理不同。超声等离子体的反应是物理反应，射频等离子体的反应是物理反应和化学反应，微波等离子体的反应是化学反应。超声等离子体清洗对被清洗表面影响较大，因此在实际半导体生产应用中多采用射频等离子体清洗和微波等离子体清洗。
但从对环境的影响、原材料的消耗以及未来的发展来看，干洗明显优于湿法清洗。在干洗中，等离子清洗发展迅速且优势明显，等离子清洗已逐渐广泛应用于半导体制造、微电子封装、精密机械等行业。2、等离子体清洗机的机理等离子体是一种部分电离的气体，是除固体、液体和气体外的第四种状态。等离子体由电子、离子、自由基、光子和其他中性粒子组成。由于等离子体中电子、离子和自由基等活性离子的存在，它很容易与固体表面发生反应。
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