3、PLASMA处理的表面粗化与蚀刻作用：对应不同的材料采用相应的气体组合形成具有强烈蚀刻性的气相等离子体与材料表面的本体发生化学反应及物理冲击，烟雾为什么附着力弱的原因使材料本体表面的固态物质被气化，生成如CO、CO2、H2O等气体，从而达到微蚀刻的目的。 主要特点：刻蚀均匀，不改变材料基体特性；能有效粗化材料表面，并能精准控制微蚀量。
由于高温等离子体对物体表面的强烈作用，烟雾为什么附着力强烈在实际应用中很少使用，目前只在低温下使用Ionosomes,因为冷等离子体被称为等离子体短,我希望读者不会误解。
图 1.2 等离子体产生原理（以水为例）等离子体由大量离子和自由电子组成，烟雾为什么附着力强烈整体上表现为近似电中性，与物质的三态一样，是物质存在的一种聚集态。从宏观上看，等离子体是一种导电的流体，由等离子体的生成过程可知，当给气体施加显著的高温或高能量时，中性的物质就会被离解成离子、电子和自由基。另外，等离子体本身具有变成为电中性的强烈倾向，等离子体中的电荷分离需要由等离子体本身的内能（热能）或外加电场来维持。
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化学反应室中的气体电离是指离子、电子、自由基等活性物质的等离子体，通过扩散吸收于表象介质中，并与表象介质中的原子反应，形成挥发性物质。而且，高能离子在一定压力下物理轰击和蚀刻介质的外观，去除再沉积的化学反应产物和聚合物。介质层的刻蚀是通过化学和物理相互作用完成的。刻蚀是晶圆制造的重要环节，也是微电子IC制造工艺和微纳制造工艺中的重要环节。
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等离子技术是一新兴的领域，该领域结合等离子物理、等离子化学和气固相界面的化学反应，此为典型的高科技产业，需跨多种领域，包括化工、材料和电机，因此将极具挑战性，也充满机会，由于半导体和光电材料在未来得快速成长，此方面应用需求将越来越大。。
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