它的控制器分为两个部分：1）主机电源：有三种处理器主频，电晕机一般开多少功率分别对应40kHz、13.56MHz和2.45GHz，其中13.56MHz需要主机功率匹配器。2）系统控制部分：分为按钮控制（半自动、全自动）、电脑控制、PLC（液晶触摸屏控制）三大类2.真空室。真空室主要分为两种材料：不锈钢真空室。2）石英腔。3.真空泵。真空泵分为两类：1）干燥泵。2）油泵。
（2）气体类型：待处理对象的衬底及其表面污染物种类繁多，电晕机一开电源就报警等离子体处理器在不同气体放电中产生的等离子体清洗速度和清洗结果相差甚远。因此，应有针对性地选择等离子体的工作气体。例如，可以选择氧等离子体去除物体表面的油，选择氢氩混合气体等离子体去除氧化层。（3）放电功率：增加放电功率可提高等离子体密度，增加（活）粒子能量，改善清洗结果。例如，氧等离子体的密度受放电功率的影响很大。
第三，电晕机一般开多少功率与其他等离子体清洗设备相比，常压等离子体清洗设备的清洗成本更低，因为清洗条件下所需真空度仅为PA，不仅清洗条件简单令人满意，而且清洗过程中不需要昂贵的有机溶剂，所以整个清洗过程的成本降低了，但清洗功率仍然很高，只需要几分钟就能完成清洗。第三，目标导向也是大气等离子体清洗设备的一大优势。
提高等离子体的射频功率就是提高等离子体的离子能量以加强清洗强度。离子能量是活性反应离子做物理功的能力。射频功率的设置主要实现与清洗时间的动态平衡。增加射频功率可以适当减少处理时间，电晕机一般开多少功率但会导致反应室内温度略有升高，因此需要考虑清洗时间和射频功率。等离子清洗后，测试工件芯片的接触角。
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因此，从能源效率的角度出发，应选择适当的能源密度。N2加入对等离子体中CH转化率的影响等离子体：随着原料气中N2浓度的增加，CH4转化率增加，说明惰性气体N2有。有利于CH4转化。C2烃产率随N2加入量的增加略有增加，反应器壁积炭量随N2加入量的增加略有减少。但与H2对甲烷脱氢偶联反应的影响相比，在相同实验条件下，C2烃产率较低，积炭量较多。
（2）有些分子受高能电子碰撞刺激，原子键断裂形成小的碎片基团和原子。(3)-O、-OH、-HO2与原子、有机分子、破碎基团等自由基反应。其中一些被氧化分解为CO、CO2和H2O等恶臭成分。
低温等离子体的出现解决了人们面临的许多难题，为人们的生活做出了巨大贡献。。太阳给我们的地球带来了一切，给我们光和热，给我们颜色，给我们氧气和光合作用，如果没有太阳，我们的地球就会陷入黑暗，一切都会失去光泽，甚至连我们基本的氧气都得不到提供，植物也会失去光合作用，所以太阳对我们的重要性是难以想象的。
聚合物表面改性可以改变材料表面的化学性质，但不会改变材料的整体性能。4.聚合物表面涂层通过工艺气体聚合在材料基层表面形成等离子体涂层形成一层薄的等离子涂层。如果所使用的生产气体由复合分子组成，如甲烷、四氟化物和碳，它们将在等离子体中分解形成自由的功能单体，这些单体将键合在聚合物表面，并重新结合以覆盖聚合物表面。这种聚合物表面涂层能明显改变表面的渗透率和摩擦力。
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