然后这些活性基团与分子或原子碰撞，憎水性物质与亲水性物质活性基团与活性基团碰撞产生稳定的产物和热量。此外，高能电子也可被卤素和氧等具有强电子亲和力的物质捕获，成为负离子。这些阴离子具有良好的化学活性，在化学反应中起着重要的作用。。1. 憎水聚丙烯酸人工晶状体是一种新型的软材料，具有良好的屈光度和柔韧性，表面黏度高，并能与后囊产生更强的粘连，有效抑制晶状体上皮细胞的迁移和增殖，降低(低)后囊浑浊的发生率。
等离子设备清洗后，亲水性物质的性质导管表面变滑，表面无有害基团，说明氧等离子设备清洗工艺是一种有效的表面处理方法。硅树脂经过隔离处理以增加表面活性，然后涂上一层憎水材料，这种材料不易老化，效果也很好。使用过程中，输液器末端的注射针将与针头架分开。一旦分离，血液就会流出针头。如果不及时正确处理，将对患者造成严重威胁。虽然针孔很小，很难用传统方法处理，但等离子体是一种离子气体，可以有效地处理微小的孔。
如憎水合成纤维的抗静电处理、各种纺织品的阻燃处理、芳香处理等。。低温等离子体发生器在纺织印染加工中有三大主要功能:随着社会科学技术的进步，憎水性物质与亲水性物质纺织技术得到了提高。在纺织工业中，低温等离子体发生器越来越重要。本文着重介绍了等离子体技术在涤纶前处理、染整及改善吸湿性能中的应用。
等离子体的"活性"组分包括:离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。等离子清洁机就是经过运用这些活性组分的性质来处理样品外表，憎水性物质与亲水性物质然后实现清洁、涂覆等意图。
憎水性物质与亲水性物质
另外，由于工艺总是由人在净化室进行，半导体芯片难免会受到各种杂质的污染。按照污染物的来源和性质，可大致分为四类:颗粒、有机物、金属离子和氧化物。1.1颗粒:颗粒主要是聚合物、光刻胶和蚀刻杂质。这种污染物通常吸附在芯片表面，影响器件光刻过程的几何和电学参数。
氩气和氦气性质稳定，并且放电电压低(氩原子的电离能E为15.57 eV)易形成亚稳态的原子，一方面等离子清洗机利用其高能粒子的物理作用清洗易被氧化或还原的物件, Ar+轰击污物形成挥发性污物被真空泵抽走，避免了表面材料发生反应;另一方面利用氩气易形成亚稳态的原子，再与氧气氢气分子碰撞时发生电荷的转换和再结合，形成氧氢活性原子作用于物体表面。
产品老化的影响因素；由于真空等离子体清洗机的等离子体处理具有化学和物理变化的特点。物理化学变化是指材料的表面改性。刻蚀后表面突起增多，表面积增大。如果暴露在污染的空气中，夹杂着灰尘、油和杂质，表面能会逐渐降低。在等离子体处理过程中，化学变化会引入含氧极性基团，如羟基这些活性分子具有时间敏感性，易与其他物质发生化学变化，处理后表面能保留时间难以确定。
这体现在人们越来越重视生产过程中的胶粘剂，希望以简单、低成本的方式实现材料的长期粘接。此外，表面印刷（效果）也需要长期的稳定性，尤其是当潮湿、碱性物质会腐蚀家用电器时，常压等离子体加工设备的加工过程可以由机器人自动完成，并且很容易植入到现有的制造工艺中。一旦前处理技术融入系统，只需轻轻一按按钮，系统就能实现稳定再现、监测可靠的表面前处理。
憎水性物质与亲水性物质
一般认为等离子体表面处理具有多种复杂的过程，憎水性物质与亲水性物质如表面活化、交联和表面蚀刻。表面活化赋予材料表面自由基和极性基团，提高润湿性，而交联和蚀刻降低材料表面活性物质，影响润湿性的提高。等离子体表面处理对材料表面的影响主要是开始活化，随着处理时间的增加，交联和蚀刻效果增加，影响润湿性的进一步提高。等离子体表面处理时间越长，改性效果越稳定。
