Hsieh等[16] 研究发现,未处理PET膜与水接触角是73.1°,Ar等离子体处理5min,放置一天后测量,与水接触角降为33.7°,随放置时间的延长,接触角缓慢上升,显示出处理效果随时间衰退。放置10d后测量,接触角升至41.3°。Yasunori等[18] 研究N2 等离子体处理LDPE时也发现,表面极性基团在处理后20d左右基本消失。
2.清洗高分子材料表面：等离子体作用通过高能电子和离子轰击材料表面，亲水性大小比较机械地清除污垢层。等离子刻蚀机清洗可以去除某些加工过的聚合物中可能存在的污垢层、不必要的聚合物表面涂层和弱边界层。3.高分子表面改性：聚合物表面的离子键被等离子体破坏，导致聚合物表面自由官能团的形成。根据等离子体过程气体的化学性质，这些表面自由官能团与等离子体中的原子或化学基团结合形成新的聚合物官能团，取代原有的表面聚合物。
冷等离子体在寒冷条件下可以产生非平衡电子器件、反应离子和氧自由基。等离子体中的能量基团与表面层碰撞，基团的亲水性大小比较导致溅射、热蒸发或光解。一种特殊的低温等离子处理器工艺是等离子溅射和腐蚀引起的物理化学变化。在低温等离子处理器的过程中，高能离子脉冲在冷处理过程中会产生表面原子位移。物理溅射没有选择性，因为它会导致表面下的原子在某些条件下移动。
带电表面会吸引电解液中的带有反性电荷的微粒。这样可以使这些微粒仍保留在流体中，化合物亲水性大小比较通过电动抽吸而更容易的通过通道。等离子体可以有效地促进带电表面的电泳或电渗透流动。图 3：上面的反应机理是等离子产生的氧基团攻击吸附在表面的碳氢化合物的简单示意图。还存在众多其它的机理包括不同的氧的激发状态，如自由基态和二价分子。吸附在表面的碳氢化合物可以被等离子体中的电子碰撞所激化，从而提供另外可行的反应路径。。
亲水性大小比较
吸附碱与固体表面层的分子结构发生反应，产生产物的分子结构。分析产物的分子结构以形成气相。反应物与表面层分离。低温等离子清洗机的最大特点重要的是，它可以处理金属、半导体、氧化物、有机化合物和大多数聚合物材料，无论处理介质的材料如何，并且可以以最小的气流清洁整个、局部和复杂的结构。本发明无需化学溶剂洗涤，基本无污染，有利于环境保护。制造成本低，清洗均匀性好，重现性好。可控，易于量产。
这些活性粒子与表面物质的反应如下:电离-气体分子-激发态-激发态分子-清洁-活化表面等离子体是通过向一组电极施加射频电压(在几十兆赫范围内)并在它们之间产生高频交变电场而产生的。在交变电场的激发下，这个区域的气体产生等离子体。活性等离子体轰击并作用于被清洗材料的表面，使被清洗材料的表面材料成为颗粒和气体物质，通过真空排出，达到清洗的目的。过程一:去除有机化合物首先，利用等离子体原理激活气体分子。
4.温度低 plasma清洗机接近常温，特别适用于聚合物材料，比电晕火焰保存时间长，表面处理张力比较大。5.成本低 plasma清洗机简单，操作维护方便，可连续运行。通常，几瓶等离子气体可以取代数千公斤的清洗液，因此清洗成本将大大降低。6.全称可控工艺几乎所有的 plasma清洗机参数都可以通过计算机设置和数据记录进行质量控制。
在不需要热水清洗的时候，冷水清洗的成本比较低，所以很多用户都采用了冷水等离子清洗机。下水道疏通等离子清洗机一般使用冷水等离子清洗机，效果非常好。此外，一些大型厂矿使用超高压等离子清洗机，使用冷热水，但效果当然是极好的。可用热水或冷水洗涤，洗涤方式可根据洗涤对象选择。这种高压等离子清洗机，其高压泵，质量更好，结构更复杂，成本更高，是高端用户的选择。。
基团的亲水性大小比较
等离子体清洗技能的较大特点是不分处理政策的基材类型，化合物亲水性大小比较均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚酯、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、乃至聚四氟乙烯等都能很好地处理，并可结束全体和部分以及凌乱结构的清洗。。 众所周知，等离子清洗机在日常生活中的使用还是比较多的，这种清洗设备的使用给生产活动带来了便利。
装置建成后，化合物亲水性大小比较实验的第一步是利用各种仪器测量装置内产生的等离子体；要根据现有理论对测量数据进行处理，从而获得具体等离子体形成过程的定性和定量结果以及器件中现象的详细性质，这是等离子体诊断学的内容。实验条件的调节和控制也必须基于测量和诊断的结果，然后是现代信息和控制技术，构成闭环运行，从而推进实验研究。实验结果应与相应参数条件的理论分析进行比较，以确定实验和理论的方向。
