是他给出了等离子体表面处理的概念（点击查看详情）、等离子体的定义和名称&ldquo；血浆&rdquo；指出了研究等离子体的实验和理论方法。首先用探针对等离子体参数进行诊断。20世纪30年代，亲水性矿物的概念等离子体表面处理成为研究对象，当时对等离子体研究的兴趣主要与气体放电仪器（汞弧整流器、气体二极管、三极管[闸流管]、齐纳二极管）的发展有关。
这提高了硅片的利用效率。湿法刻蚀系统是通过化学刻蚀液与被刻蚀物体之间的化学反应将材料剥离的刻蚀方法。大多数湿法蚀刻系统是各向同性蚀刻，亲水性矿物的概念不易控制。特点：适应性强，表面均匀，对硅片损伤小，几乎适用于所有金属、玻璃、塑料等材料。缺点：绘图的保真度不理想，难以把握绘图的最小线。湿法蚀刻是通过将蚀刻溶液浸入蚀刻溶液中进行蚀刻的技术。简而言之，就是初中化学课上化学溶液蚀刻的概念，是纯化学蚀刻，选择性极好。
1、常压空气等离子清洗机的清洁基本概念是给它连接气体与能量转换，亲水性矿物黏粒的组成是空气压力作到0.2mpa上下、与足够的能量转换，通俗性来讲则是高频率髙压产生等离子。再借助等离体子体轰击被清洁的产品表面，以作到清洁功效。空气型等离子清洗机的优点是都可以快速的实现大批量生产。
由于等离子体处理的目的是对表面进行修饰或在表面形成一层合成材料，亲水性矿物的概念因此等离子体与材料之间的相互作用以及最终反应产物的形成是整个过程中最重要的问题。每个等离子体处理过程都被限制在一个多维室中。反应室的大小决定了整个工艺的经济性、反应质量、反应性能等参数，使该工艺具有竞争力和工业应用价值。
亲水性矿物的概念
在印刷大幅面薄膜时，因为生成的静电多，在机速高、树脂中未掺有抗静电剂的情况下，很可能引起火灾或爆炸事故。塑料薄膜的静电形成是因为PE和PP具有优良的介电功能、电阻高、导电性差，薄膜在挤出收卷进程中因摩擦而发生静电，在印刷进程中使静电进一步发生和堆集，并不易释放，使薄膜表面聚积很多的静电荷。印刷薄膜收卷后，薄膜与薄膜之间紧紧地卷在一起，使电荷不利于排挤而利于吸引，造成粘合。。
在正向电压下，这些半导体材料在 LED pn 结中，电流从 LED 阳极流向阴极，注入的少数载流子在与多数载流子复合时以光的形式发射出多余的能量。半导体晶体可以发出从紫外线到红外线的各种颜色的光。它的波长和颜色是由构成pn结的半导体材料禁带的能量决定的，光的强度与电流有关。基本结构：简单来说，LED可以看成是电致发光半导体材料芯片的一部分，引线键合后用环氧树脂将其周围密封。
这从磁场能量改变的视点能够很容易了解，电流发生改变时，磁场能量发生改变，可是不可能发生能量跃变，体现出电感特性。寄生电感会推迟电容电流的改变，电感越大，电容充放电阻抗就越大，电源完整性反应时间就越长。自谐振频率点是区别电容是容性仍是感性的分界点，高于谐振频率时，“电容不再是电容”，因而退耦效果将下降。
下边讲解等离子设备的清洁原理：1、等离子设备清洗后的工件送入真空等离子清洗机的空腔并固定，启动操作装置，開始排气，使真空室的真空度达到标准的10帕，通常排放时间约为几十秒。对等离子体进行未经化学处理的任何一种表面改性方法，称为干蚀。在等离子蚀刻过程中，所有等离子清洗的产品都是干腐蚀的。等离子体腐蚀类似于等离子体清洁。
亲水性矿物的概念
为了实现物质从致密聚集态到分散聚集态的转变，亲水性矿物黏粒的组成是必须提供额外的动能来破坏原始粒子之间更大的结合能。类似地，当物质处于气态时，电晕等离子体处理器继续提供动能以形成气态物质粒子，这些粒子被电离以形成等离子体。。电晕等离子处理器的历史：等离子体于 1879 年被发现并于 1928 年被称为“等离子体”，它是一种气体、液体和固体。等离子体温度可以分别表示为电子温度和离子温度。
引线粘污处理技术目前对引线粘污的处理方法主要采用的是紫外光清洗或者等离子体清洗，亲水性矿物黏粒的组成是两者在引线清洗中都有各自的适用性，具体的选择需要根据具体的工艺确定。 由于湿法清洗会带来环境污染和清洗过后的二次粘污，干法清洗在这方面具有明显的优势。等离子体中活性粒子的“活化作用”能够有效除 去物体表面的沾污物，从而达到清洗的目的，这就是等离子体清洗。
