等离子表面处理机等离子清洗去光刻胶： 芯片表面的残胶、金属离子、有机物和残留的空气污染物在半导体元件的加工过程中都会产生，附着力促进剂 1120为了防止空气污染物对芯片的生产加工造成较严重的危害，在芯片的生产制造过程中，芯片生产需要多道清洗工序，等离子表面处理机等离子清洗设备是芯片光刻胶等污染物去除的理想清洗设备。
通过电极之间的高电位差产生电弧放电(> 00℃)，金属五金自干附着力促进剂将电极周围的气体电离为等离子体，然后高速撞击表面悬浮的改性粉状物质，使其在金属表面上沉降。等离子体喷涂是目前应用广泛的沉积方法。该涂层可在基体和表面改性层之间形成较高的结合力，得到完全覆盖的涂层(40~54m)。采用此工艺形成的涂层可以在体液中快速形核长大。
因此，附着力促进剂 1120如果润滑膜被破坏，相匹配的部件将以金属接触的形式相互接触。因此，在高速、高温、高压的作用下，与零件接触的微小区域会在瞬间产生极高的摩擦热，从而使接触材料之间发生熔合粘连，形成失效源。另外，在构件高速运转下，失效源扩大，粘接构件以开裂碎片的形式被撕裂或分离，嵌入摩擦副中。这些坚硬的颗粒在两个滑动表面之间产生切割效果，导致摩擦表面受损，造成熔化磨损。
20MHz有物理反应，金属五金自干附着力促进剂但主要反应是化学反应。如果需要对材料进行活化和改性，则需要 13.56MHz 或 20MHz 等离子清洗。 40KHz等离子在能量转换方面优于13.56...
