等离子清洗机应用领域：微电子行业：电子设备/集成电路的清洗和修复；LED行业：提高LED寿命；汽车行业：橡胶-金属耦合/耦合；塑料橡胶行业：绑定、耦合前集成加工；半导体制造：芯片、硅片等的清洗、氧化物的去除；精细化工：涂装工业、涂装着色、涂装前的微细清洗；清洗、消毒（消毒）等；传感技术：传感器光学激光：光学镜、透镜等的清洗；科研院所：SEM/TEM/FIB电镜样品的清洗、同步辐射、真空/超高真空密封系统的清洗；玻璃、金属、陶瓷等。
目前，ibe离子束刻蚀 原理说明书 filetype:pdf对于III-V族化合物半导体、石墨烯、碳纳米管等材料似乎有很多声音，但目前业界共识是PMOS使用锗，纳米NMOS使用磷化铟。 III-V族化合物，IMEC（微电子研究中心，成员包括INTEL、IBM、台积电、三星等半导体行业巨头）在等离子蚀刻的300MM（22NM）晶圆上有磷，我们早就宣布整合成功.铟和铟砷已开发出FINFET复合半导体。
例如，ibe离子束刻蚀在太阳表面，由于超过6000°C的高温，所有物质都以等离子体的形式存在。如果TE>TI，则称为非平衡等离子体（NON-THERMAL EQUILIBRIUM PLASMA）。电子的温度可以在104K以上，但系统中离子和中性粒子的温度可以在300-500K以下。非平衡等离子体也称为低温等离子体（COLD PLASMA），一般气体放电产生的等离子体就属于这种类型。
1963 年，ibe离子束刻蚀 原理说...
