4、工作气体选择对真空等离子清洗设备清洗效果的影响：工艺气体的选择在真空等离子清洗设备的清洗工艺设计中很重要。大多数气体或气体混合物通常会去除污染物，玻璃油墨的附着力但净化率可能会相差数十倍。例如，将不同比例的六氟化硫 (SF6) 添加到氧气 (O2) 中，作为清洁有机玻璃的工艺气体。正确选择工艺气体可以显着提高清洁速度。。
等离子清洗主要用于基板表面的物理清洗和粗糙化。表面清洁不会导致精细电子设备的表面氧化。 为此，减反玻璃油墨附着力较低氩等离子清洗机广泛应用于半导体、微电子、晶圆制造等行业。用真空等离子清洁器电离氩气产生的等离子是深红色的。在相同的放电环境下，氢气和氮气产生的等离子体颜色为红色，但氩等离子体的亮度低于氮气，高于氢气。 (1)表面清洗A一般用于去除晶片、玻璃等带有颗粒的产品表面的过程。
蚀刻后夹层玻璃透过率的提高，减反玻璃油墨附着力较低是因为经过ECR等离子体蚀刻后，在夹层玻璃表面，出现了一种不均匀的纳米结构，即亚波长结构，小于可见光波长。这种结构在空气和夹层玻璃之间起到缓冲作用，完成折射率梯度变化，进而消除折射率突变的界面，从而达到减反射、防反射的效果。但当光线通过原夹层玻璃表层时，折射率的突变会引起大量反射，进而导致原夹层玻璃的透过率低。
形态；CHF3侧壁保护不完善；CF4气体可实现均匀的侧壁保护，玻璃油墨的附着力保持近乎垂直的侧壁角度，提供侧壁保护。用等离子工业清洁剂蚀刻金属铝的难点在于多层金属复合膜和下面的粘合阻挡层的复杂性，其中经常使用 TIN 或其他减反射材料作为图案曝光减反射层。与 TI 和其他材料一样，这些材料...
