去除水珠附着力

1、去除光刻胶方法

去除光刻胶是一个重要的工艺过程，有多种方法可以实现，包括化学方法、物理方法以及其他一些特定技术。化学方法：液相去除法：采用有机溶剂，在较高的温度和浓度下，辅助去除光刻胶。...

2、等离子除胶机可以去除什么胶

等离子除胶机的作用相当广泛，它可以去除多种类型的胶残留，且不需要使用到各种化学药剂，避免了对环境和人体的污染。...

3、半导体去胶技术——晶圆等离子去胶工艺，去除光刻胶、污染物、残余物和其他无用杂质

等离子干法去除光刻胶工艺利用高能等离子体处理光刻胶表面，去胶彻底且速度快，不需引入化学物质，减少了对晶圆材料的腐蚀和损伤，是现有去胶工艺中最好，有效且高效的半导体光刻胶去除工具，具有高效、均匀、无损伤等特点。...