1、磁漆附着力如何（氟聚氨酯无光磁漆附着力）磁漆附着力差的原因 在等离子体表面处理机等离子体蚀刻过程中，氟聚氨酯无光磁漆附着力与含氟聚合物层相比，SiOxFy无机复合膜更难蚀刻，在蚀刻过程中需要较高的离子轰击能量才能去除保护层底部的硅槽，并避免明显的横向蚀刻，可以形成结构更垂直的侧壁。虽然较高的离子轰击能量会进一步提高光刻胶的刻蚀速率，但在非常低的温度下(低于-...
