LCD行业中的ITO玻璃在运送和湿法清洗后，无机物的亲水性和疏水性表面残留的有机溶液和无机颗粒，成为影响IC贴合到ITO玻璃上的主要因素。在等离子清洗应用中，主要是利用低压气体辉光等离子体。一些非聚合性无机气体(Ar、N2、H2、O2等)在高频低压下被激发，产生含有离子、激发态分子，自由基等多种活性粒子。
活性气体所发生的等离子体也可以添加外表的粗糙度,但氩气电离后发生的粒子相对较重,氩离子在电场的作用下的动能会显着高于活性气体,所以其粗化作用会更加显着,在无机物基材外表粗化工艺中使用Z为广泛。如玻璃基材外表处理、金属基材外表处理等。 3活性气体辅佐 在等离子清洗机的活化和清洗工艺中,工艺气体经常被混合使用,以到达更佳的作用。
等离子体清洗通常采用激光、微波、电晕放电、热离子化、电弧放电等方式将气体激发到等离子体状态。在等离子体清洗应用中，无机物的亲水性和疏水性主要使用低压气体辉光等离子体。一些非聚合的无机气体(Ar2、N2、H2、O2等)在高频和低压下受到刺激，以产生含有离子、激发分子、自由基等的活性粒子。通常，在等离子体清洗中，活性气体可分为两类，一类是惰性气体等离子体（如Ar2、N2），另一类是反应气体等离子体（如O2、H2）。
等离子清洗设备已广泛应用于生物医药行业、印刷线路板行业、半导体IC领域、硅胶、塑料、聚合物领域、汽车电子行业、航空工业等客户提供整体表面处理解决方案，亲水性和疏水性同时帮助客户提高产品质量，提高生产效率，同时降低环境的不利影响。。等离子体等离子清洗机:清洗是电子行业中常见的清洗概念，它涉及到一个工艺层面，涉及到污染...
